반도체 소자 제조 |
---|
![](//upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/d/d5/4-fach-NAND-C10.JPG/100px-4-fach-NAND-C10.JPG) |
MOSFET 스케일링 (공정 노드) |
|
|
|
v • d • e • h |
3 µm(마이크로미터) 공정은 회로선 폭이 3 µm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 1975년 경 인텔과 같은 반도체 회사가 달성하였다.
3 마이크로미터 제조 공정을 적용한 제품
각주
- ↑ Mueller, S (2006년 7월 21일). “Microprocessors from 1971 to the Present”. informIT. 2012년 5월 11일에 확인함.
- ↑ “보관된 사본”. 2015년 4월 27일에 원본 문서에서 보존된 문서. 2019년 9월 28일에 확인함.